Udviklingen af en stabil og pålidelig glans-kobber-elektrolyt præsenterede os for flere udfordringer, særligt ved valget og doseringen af glansdanneren. I den tidlige fase af vores forskning benyttede vi en glansdanner, der var ekstraordinært effektiv og desuden havde den fordel, at den forblev stabil over meget lange belægningsperioder. Selv ved timeslange belægningsprocesser kunne glansen opretholdes i mange timer, mens andre glansdannere nedbrød markant hurtigere under sammenlignelige forhold.
Dog reagerede denne glansdanner ekstremt følsomt over for doseringsvariationer. Selv en minimal underskridelse af den optimale koncentration førte til matte overflader, mens en let overdosis gav en blank, men ofte stribet belægning.
På trods af intensive forsøg på at kontrollere denne følsomhed ved hjælp af kemiske buffere, forblev resultaterne utilfredsstillende. Buffere kunne ikke stabilisere glansdannerens reaktivitet tilstrækkeligt, hvilket medførte store variationer i aflejringen. Udfordringen bestod i at finde en metode, der både muliggør en ensartet glansdannelse og en konsistent lagkvalitet.
For at løse disse problemer valgte vi at ændre vores forskningsretning og udvikle en mere stabil og mindre følsom løsning. Gennem intensiv hybridforskning lykkedes det os at udvikle en ny glans-kobber-elektrolyt, der tilbyder en fremragende balance mellem glans og udjævning. Denne elektrolyt giver en jævnt blank aflejring, som forbliver stabil selv ved varierende doseringer. Især er det værd at fremhæve, at den nye elektrolyt også leverer fremragende resultater i pen-galvanisering, hvor den skaber stabile og æstetisk tiltalende overflader.
Gennem denne nyudvikling har vi ikke blot forbedret kvaliteten og holdbarheden af aflejringerne markant, men også udvidet anvendelsesområdet for glans-kobber-elektrolytten. Den repræsenterer nu en pålidelig løsning til en bred vifte af anvendelsesområder.
